
產(chǎn)品介紹
三氟化硼(11BF3)等氣體可以通過(guò)外延生長(zhǎng)、離子注入、摻雜、刻蝕、清洗、掩蔽膜生成等關(guān)鍵工藝使硅材料(晶圓基底材料)具備半導(dǎo)體等光電性能,它決定了集成電路、半導(dǎo)體材料的性能、集成度、成品率,被稱為半導(dǎo)體集成電路制造的“糧食”或“源”。還廣泛應(yīng)用于光電子、化合物半導(dǎo)體、太陽(yáng)能光伏電池、液晶顯示器等領(lǐng)域。
質(zhì)量指標(biāo)
| 項(xiàng)目 | 指標(biāo) |
| 11BF3 | ≥99.999% |
| CO | <0.5ppm |
| CO2 | <0.5ppm |
| N2 | <1ppm |
| O2 | <3ppm |
| SiF4 | <2ppm |
| SO2 | <2ppm |
| 硫酸鹽(Sulfates) | <0.5ppm |
| THC(以甲烷計(jì)) | <0.5ppm |
應(yīng)用領(lǐng)域
廣泛應(yīng)用于光電子、化合物半導(dǎo)體、太陽(yáng)能光伏電池、液晶顯示器、光導(dǎo)纖維制造等領(lǐng)域。